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隨著市場(chǎng)端對(duì)高功率的需要不斷擴(kuò)大，PERC電池各工序配套設(shè)備、輔料供應(yīng)商和硅片質(zhì)量的不斷提升，以及電池和組件工藝的不斷進(jìn)步，PERC電池成為各大電池廠家產(chǎn)線升級(jí)和擴(kuò)產(chǎn)新線的首選
 圖4. PERC電池生產(chǎn)工藝流程（圖片來源Taiyang News 2017） 對(duì)于PERC電池背面鈍化膜的選擇，主要有氧化硅（SiOx）——1999年趙建華博士、王艾華博士通過背面采用氧化硅鈍化實(shí)現(xiàn)了25.0%的效率；氮氧化硅（SiONx）——早期Solar Word以及現(xiàn)在的愛旭、潤(rùn)陽(yáng)等；氧化鋁（AlOx）——現(xiàn)在主流廠家都采用氧化鋁和氮化硅疊層膜的背鈍化膜結(jié)構(gòu)。 氧化鋁和氮化硅疊層膜疊層結(jié)構(gòu)作為P型PERC背面鈍化膜的優(yōu)勢(shì)，主要體現(xiàn)在三個(gè)方面。 氧化鋁具有較高的固定負(fù)電荷密度Q>10E13/cm3，可以得到優(yōu)異的場(chǎng)鈍化效果；氮化硅膜富含氫原子，可以在熱處理過程中對(duì)表面和體內(nèi)的缺陷進(jìn)行化學(xué)鈍化；氧化鋁薄膜帶隙6.4eV，折射率1.65左右，可以提供較好的背面光學(xué)反射功能。 氧化鋁的厚度根據(jù)沉積方式的不同，厚度也不一樣，一般分為PECVD模式（主要廠家是Meyer Burger，Centrotherm和國(guó)內(nèi)某司）控制在20-25nm，ALD模式（主要廠家有Solay Tec、Levitech、NCD、Ideal Energy、Lead Micro等）控制在3-9nm。厚度的不同導(dǎo)致使用關(guān)鍵化學(xué)品TMA耗量的不同，如圖5所示。 同時(shí)為了避免后續(xù)金屬化燒結(jié)過程鋁漿對(duì)鈍化膜的破壞，再要額外沉積一層100-150nm厚度的氮化硅，一方面可以保護(hù)氧化鋁鈍化膜，另外還可以提升背面減反效果。  圖5. PECVD和ALD不同模式TMA的耗量（數(shù)據(jù)來源Taiyang News 2017） PERC電池制作另一關(guān)鍵工序是激光開窗，通過激光熱熔方法把背面需要形成鋁硅合金接觸的區(qū)域上面的氧化鋁和氮化硅疊層膜熱熔掉，然后在金屬化燒結(jié)過程中讓鋁漿和此區(qū)域的硅形成鋁硅合金的接觸。 根據(jù)激光種類的劃分，分為納米激光和皮秒激光兩種，供應(yīng)商主要有Innolas、Rofin、3D-Micromac、臺(tái)灣友晁、武漢帝爾等。 |
