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    IGBT/MOSFET技術促使太陽能面板轉換效率猛進

    來源:新電子 編輯:admin 轉換效率
    隨著節能觀念興起,再生能源的發電效率也逐漸受到重視,為迎合市場需求,太陽能業者皆無所不用其極努力打造節能高效的太陽能發電系統。受惠近期太陽能光伏逆變器中的IGBT與MOSFET兩項功率元件技術顯著進步,太陽能面板轉換效率已大幅提升。 IGBT技術演進日趨成熟

      隨著節能觀念興起,再生能源的發電效率也逐漸受到重視,為迎合市場需求,太陽能業者皆無所不用其極努力打造節能高效的太陽能發電系統。受惠近期太陽能光伏逆變器中的IGBT與MOSFET兩項功率元件技術顯著進步,太陽能面板轉換效率已大幅提升。

      IGBT技術演進日趨成熟

      IGBT與N通道(N-ch)型MOSFET不同處在于,N-ch型MOSFET的基板極性為N;而IGBT的基板極性為P。由IGBT的構造圖可看出,IGBT是由N-ch型的MOSFE與PNP型雙極面結型晶體管(BipolarJunctionTransistor,BJT)組合而成。

      第二代的穿透型平坦式(PunchThroughPlanar)IGBT(圖1)在內部N-chMOSFET導通時,電洞(Hole)從PNP型BJT的射極(Source)注入N-chMOSFET的泄極(Drain),使此部分電阻降低,此現象稱為接面的傳導度調變。高壓MOSFET泄極的磊晶層(Epitaxial)主宰導通電阻的關鍵部分,無法大幅降低導通阻抗,而IGBT內的BJT是雙極元件,可大幅降低導通電阻,也就是說其具有低的集射極導通電壓(Vce(on))。但是凡事難以兩全其美,當此IGBT要關閉時,n-Epitaxial中的少數載子(Carrier)消失需要一段時間,產生拖尾電流(TailCurrent),造成較大的截止能量損失Eoff(Turn-offEnergyLoss),為改善此缺點,必須將晶圓做一些處理,如在P基板及n-Epitaxial中間加入n-buffer層或打電子射線(E-beam)、中性子(Proton)射線等,以減輕電流拖尾問題。

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