霧化cvd高速成膜 太陽能電池轉換效率提高1成！
“太陽能電池的轉換效率最大提高了1成”——。東芝三菱電機產業系統開發出了通過將原料制成霧狀來形成薄膜的霧化CVD（化學氣相沉積）裝置“TMmist”。由于采用非真空工藝、不使用等離子體，因此有望減少裝置的設置面積和初期投資，并提高基材薄膜的特性。東芝三菱電機產業系統將瞄準太陽能
TMmist大致由（1）將原料制成霧狀的超聲波噴霧器、（2）向生產線上流過的寬1m左右的基板供應霧狀原料的細長整流噴嘴、（3）加熱基板的加熱器等構成（圖1）。
具體操作過程如下。先由（1）超聲波噴霧器利用1.6M～2.4MHz超聲波將成膜原料溶液制成直徑數μm的霧狀液滴注1）。接著，將霧狀原料與載氣混合，輸送至（2）整流噴嘴，噴到基板上。然后，噴到基板上的原料（3）在加熱器產生的熱效應下分解反應，形成薄膜。
實現產品化時的最大課題是如何優化對膜厚及膜質不均問題有重大影響的（2）整流噴嘴內部構造。這時需要利用整流噴嘴使霧化的原料均質化，噴到基板上。東芝三菱電機系統在母公司三菱電機的研究所的協助下，對霧化原料的流動與內部構造之間的關系進行了反復分析。另外，還對（1）超聲波噴霧器使用的原料溶液的成分等實施了優化，同時改進了（3 ）加熱器的機構，從而實現了大面積基板的均勻加熱注2）。
注1）泄漏至裝置外部的超聲波數量符合制造設備業界團體SEM（I SemiconductorEquipment and Materials International）的標準。
注2）在寬1m的基板上形成透明導電膜時，膜厚不均程度為±20％。通過在產生線上排列多個整流噴嘴、重復成膜，便可將成膜膜厚的不均程度降至±10％。
作者：河合 基伸 來源：日經BP社 責任編輯：wutongyufg
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