“太陽能電池的轉換效率最大提高了1成”——。東芝三菱電機產業系統開發出了通過將原料制成霧狀來形成薄膜的霧化CVD（化學氣相沉積）裝置“TMmist”。由于采用非真空工藝、不使用等離子體，因此有望減少裝置的設置面積和初期投資，并提高基材薄膜的特性。東芝三菱電機產業系統將瞄準太陽能電池透明導電膜的成膜等用途，力爭2014年度獲得約10億日元、2015年度獲得約20億日元的訂單。
　　用超聲波霧化
　　使用真空工藝的已有濺射裝置等需要真空室及真空泵等附屬設備。隨著基板的大型化，這些設備的設置面積及初期投資將會大幅增加。而且還無法避免等離子體給基材薄膜造成的損傷。
　　因此，東芝三菱電機系統將開發目標瞄準了利用非真空工藝、無等離子體損傷的成膜技術。該公司著眼于日本京都大學等研究的霧化CVD技術，以該技術為基礎，從2007年開始致力于產品化。
　　TMmist大致由（1）將原料制成霧狀的超聲波噴霧器、（2）向生產線上流過的寬1m左右的基板供應霧狀原料的細長整流噴嘴、（3）加熱基板的加熱器等構成（圖1）。

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作者： 來源：日經技術在線 責任編輯：gaoting

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