“太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率最大提高了1成”——。東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)開(kāi)發(fā)出了通過(guò)將原料制成霧狀來(lái)形成薄膜的霧化CVD（化學(xué)氣相沉積）裝置“TMmist”。由于采用非真空工藝、不使用等離子體，因此有望減少裝置的設(shè)置面積和初期投資，并提高基材薄膜的特性。東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)將瞄準(zhǔn)太陽(yáng)能電池透明導(dǎo)電膜的成膜等用途，力爭(zhēng)2014年度獲得約10億日元、2015年度獲得約20億日元的訂單。　　
  
　　用超聲波霧化
　　使用真空工藝的已有濺射裝置等需要真空室及真空泵等附屬設(shè)備。隨著基板的大型化，這些設(shè)備的設(shè)置面積及初期投資將會(huì)大幅增加。而且還無(wú)法避免等離子體給基材薄膜造成的損傷。
　　因此，東芝三菱電機(jī)系統(tǒng)將開(kāi)發(fā)目標(biāo)瞄準(zhǔn)了利用非真空工藝、無(wú)等離子體損傷的成膜技術(shù)。該公司著眼于日本京都大學(xué)等研究的霧化CVD技術(shù)，以該技術(shù)為基礎(chǔ)，從2007年開(kāi)始致力于產(chǎn)品化。

作者：河合 基伸 來(lái)源：日經(jīng)BP社 責(zé)任編輯：wutongyufg