三洋電機(jī)首次公開了在薄膜硅型太陽(yáng)能電池的部分制造工序中采用涂布工藝的成果。由于可減少真空工藝，因此有望降低制造成本。該公司還公開了使用1.1m×1.4m底板時(shí)，穩(wěn)定化前的轉(zhuǎn)換效率為10.4％的結(jié)果。

　　利用涂布工藝成膜的是ITO、Ag和硅，使用大日本網(wǎng)屏的線性涂布機(jī)（Line Coater）涂布三菱材料的納米油墨后加熱形成。非晶硅型膜和微晶硅膜與原來一樣仍采用真空工藝。

　　組合使用涂布工藝在1.1m×1.4m底板上形成串聯(lián)構(gòu)造薄膜硅型太陽(yáng)能電池時(shí)，穩(wěn)定化前的轉(zhuǎn)換效率達(dá)到了10.4％。Isc（短路電流）為1.40A，Voc（開放電壓）為160.7V，F(xiàn)F（填充因子）為71.2％。